Na vývoji průmyslových laserových technologií se v poslední době podílelo hned několik podstatných jevů. Jako příklad lze uvést možnost dalšího zvýšení hustoty elektronických obvodů a zpracování nových materiálů při pokroku v laserové mikrolitografii ve smyslu extrémně ultrafialové EUV litografie.Ta posunuje dosavadní hranice litografie s využíváním laserů s vlnovou délkou v ultrafialové části spektra 193 nm až na oblast extrémně ultrafialovou na bázi laserů s vlnovou délkou 13,8 nm. Tento krok se podařil díky vývoji ve firmě Trumpf při úpravě a zesílení laserového paprsku 10kW CO2 laseru tak, aby na výstupu bylo možné dosáhnout výkonu pro zisk plazmy s centrální vlnovou délkou 13,8 nm. Pestrá nabídka laserů a laserových systémů, od CO2 laserů přes pevnolátkové, nejčastěji diskové a vláknové lasery, až po lasery polovodičové, dokáže dnes už uspokojit požadavky průmyslových technologií, které ještě před krátkým obdobím byly jen obtížně řešitelné. U samotných laserů k tomu přispívá především...