Proces vakuového nanášení kovu formou páry v doutnavém výboji jakožto základ iontového plátování poprvé popsal Berghaus v roce 1938. Termín „iontové plátování“ ale poprvé použil a podrobný popis této technologie zaznamenal až Mattox v roce 1964. Jde tu o kombinaci metod odpařování a rozprašování ve vakuu. Je to metoda tvorby tenkých vrstev, řádově od 1 do 20 mikrometrů, jež se ve vakuu nanášejí rychlostí 0,1 mikrometru/ /min. Přitom vrstvy mohou tvořit jediný chemický prvek či těžkotavitelné sloučeniny (chemická reakce odpařovaného kovu ve vakuu za přítomnosti reaktivních plynů), jako jsou nitridy, oxidy, karbidy a jiné sloučeniny.
Celý článek naleznete v čísle 8/2014.